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《AI-N共掺杂制备ZnO薄膜及其性能研究》

-N共掺杂制备ZnO薄膜及其性能研究

一、引言

随着科技的飞速发展，薄膜材料在电子、光电、磁性等多个领域的应用越来越广泛。其中，ZnO作为一种重要的宽禁带半导体材料，因其优异的物理和化学性质，被广泛应用于光电器件、透明导电膜等领域。近年来，-N共掺杂ZnO薄膜因其独特的性能引起了广泛关注。本文旨在研究-N共掺杂对ZnO薄膜的制备及其性能的影响，为相关领域的研究和应用提供理论依据。

二、-N共掺杂ZnO薄膜的制备

-N共掺杂ZnO薄膜的制备主要包括溶胶-凝胶法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法等方法。本文采用溶胶-凝胶法进行制备。具体步骤如下：

1.准备