光掩膜，前11大企业占据全球55%的市场份额（2023）.pdf

全球市场研究报告

光掩膜市场是半导体行业的一个重要细分市场，因为光掩膜对于用于制造集成电路（IC）的光刻工艺至关重

要。光掩膜又称网罩，是一种含有微观图案的石英板，用于将电路设计转移到硅晶片上。

据QYResearch调研团队必威体育精装版报告“全球光掩膜市场报告2024-2030”显示，预计2030年全球光

掩膜市场规模将达到82.3亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为4.3%。

图.光掩膜，全球市场总体规模

GlobalMarketSize($Mn)

201920242030

来源：QYResearch半导体研究中心

光掩膜技术的发展趋势与半导体制造，特别是光刻工艺的整体进步密切相关。以下是当前光掩膜市场的一

些趋势：

极紫外（EUV）光刻技术：随着半导体器件缩小到纳米级，传统的光刻方法已达到物理极限。超紫外光刻被

视为下一个重大进步，它使用极短的波长，可以在硅晶片上制作更小的特征。超紫外掩膜（也称为超紫外网

罩）的开发和应用是一大趋势，因为它们需要新的材料和制造技术来承受高能量的超紫外光。

多种图案化技术：随着行业发展超越28纳米节点，双图案化、三图案化甚至四图案化等多重图案化技术变

得越来越普遍。这些技术包括使用多个光掩膜在晶片上打印复杂的图案，从而实现更小、更复杂的特征。

先进的掩膜材料：为了支持向更小的节点发展，光掩膜制造商正在开发能够承受先进光刻工艺中更苛刻条

件的新材料。这包括能承受更高的温度、耐化学腐蚀工艺的材料，以及能减少光散射的材料，如相移掩膜。

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改进掩膜检测技术：随着光掩膜特征的缩小，缺陷变得更加关键和难以检测。目前的趋势是开发能识别纳米

级缺陷的更先进的掩膜检测工具。

3DNAND内存的增长：3DNAND内存的兴起带来了一系列不同的光掩膜要求。虽然这种存储器类型的3D

特性降低了对最先进光掩膜功能的需求，但制造所需的大量掩膜可推动市场增长。

自动化和软件：光掩膜生产和检测的复杂性推动了自动化流程和先进软件在设计、模拟和提高产量方面的

应用。这些工具有助于优化掩膜制造流程，缩短新半导体产品的上市时间。

供应链弹性：受贸易紧张局势和需求增加等各种因素的影响，全球半导体供应链一直处于紧张状态。目前的

趋势是加强光掩膜供应链，以确保稳定性并降低供应中断的风险。

合作与整合：为了应对市场需求和先进掩膜开发的高成本，光掩膜制造商、半导体公司和设备供应商之间出

现了合作趋势。此外，还可能通过并购进行行业整合，以实现规模经济并提高竞争定位。

这些趋势反映了光掩膜技术的不断发展，以满足先进半导体制造工艺的需求，并支持更小、功能更强大的电

子设备的开发。

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图.全球光掩膜市场前11强生产商排名及市场占有率（基于2023年调研数据；目前必威体育精装版数据以本公司

必威体育精装版调研数据为准）

全球市场主要企业排名

Photronics

Toppan

DNP

Hoya

SK-Electronics

LGInnotek

清溢光电

台湾光罩

NipponFilcon

Compugraphics

路维光电

来源：QYResearch半导体研究中心。行业处于不断变动之中，必威体育精装版数据请联系QYResearch咨询。

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