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溅镀原理与应用.pptVIP

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•濺鍍是屬於物理氣相沉積PVD

•物理氣相沉積法的沉膜過程有三步驟

•以物理方法將薄膜材料由固體變為氣體

•薄膜材料的氣態原子或離子穿過真空抵達

樣品外表

•薄膜材料沉積在樣品上形成薄膜

真空腔電漿區

鉻原子

e-Ar+

e-鉻

e-Ar+靶流

材負

Ar+

e-e-

樣Ar+

•讓濺鍍出的金屬原子與氣體〔氮、氧..)反

•舉例:銀白色的鈦金屬,濺鍍出鈦原子(Ti)

與氮氣(N2)反應,就會以金黃色的氮化鈦

來成膜。

•當我們選擇週期表上各種金屬當濺鍍靶材

金屬〔鈦、鋁、鎳、鐵、銅、銀、鉻、

銀…等〕再搭配不同反應氣體〔氮氣、氧

氣..等〕,就可做出各種變化的薄膜。

•功能性的應用:

•半導體業的金屬層〔導電層、擴散障礙

層..〕、光電業ITO透明導電層、機械加工

刀具業的外表硬化層(TiN、CrN..)、光學

鏡片業的光學膜、3C產業EMI鍍膜

•裝飾性的應用:各色有金屬感的鍍膜

•黑灰色系:可以依製程調整做各種灰度的

顏色

•白色系:有質感的象牙白、黃白色

•彩色系:針對較平面的區域可以選擇性做

各種彩色

•無電氣特性且有金屬光澤鍍膜

前處理真

空腔2濺鍍真空腔

前處理真上下料區

空腔1

素材入

-脫脂清洗純水清洗熱風吹乾

料檢驗

上治具、

濺鍍鍍膜真空抽氣靜電除塵

上架

下治具、

洩氣破真空品檢出料轉艙

下架-

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