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《纳米Si3N4粉末制备技术及研究》
一、引言
随着纳米科技的飞速发展，纳米材料因其独特的物理、化学性质和广泛的应用前景，已经成为材料科学领域的研究热点。其中，纳米Si3N4粉末作为一种重要的工程陶瓷材料，因其高硬度、高耐磨性、良好的热稳定性和电气绝缘性等优点，被广泛应用于航空航天、电子信息、生物医疗等领域。本文将重点介绍纳米Si3N4粉末的制备技术及其研究进展。
二、纳米Si3N4粉末的制备技术
1.气相沉积法
气相沉积法是一种常用的制备纳米Si3N4粉末的方法。该方法通过将硅源和氮源在高温下进行反应，生成Si3N4气体，然后使其在基底上沉积，最终得到纳米Si3N4粉末。气相沉积法具有制备
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