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光刻技术与光刻胶材料的进展与未来趋势
目录
内容概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．2
1.1光刻技术概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．2
1.2光刻胶材料概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.3研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
光刻技术进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
2.1传统光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
2.1.1光刻机技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
2.1.2光刻胶技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
2.2高分辨率光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
2.2.1EUV光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
2.2.2干法光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
2.3新型光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
2.3.13D光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
2.3.2软光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
光刻胶材料进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
3.1传统光刻胶材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
3.1.1光刻胶类型．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
3.1.2光刻胶性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
3.2高性能光刻胶材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
3.2.1EUV光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
3.2.2新型光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
3.3光刻胶材料的应用与发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
光刻技术与光刻胶材料面临的挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
4.1技术挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
4.1.1光刻分辨率极限．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
4.1.2材料兼容性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
4.2市场挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
4.2.1成本控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
4.2.2环境保护．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
未来趋势与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
5.1光刻技术发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
5.1.1光刻分辨率提升．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39
5.1.2光刻速度优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
5.2光刻胶材料发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42
5.2.1新材料研发．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
5.2.2环保型光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44
5.3光刻技术与光刻胶材料在半导体行业
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