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相關抗反射材料班級:奈米三乙組員:張君瑋張翔茹鄭響宇報告內容填充抗反射材料開發光學上的抗反射原理抗反射材料的應用產品抗反射微結構-Moth‘sEye蛾眼效應太陽能電池工作原理填充性(Fillingproperty)蝕刻選擇比(Etchingselectivity)及吸光係對填充抗反射材料設計而言，三項主要的技術特性須要掌握。與光阻劑相容性(Resistcompatibility)數填充抗反射材料開發(a)填充性(Fillingproperty)材料的厚度、填充材料的化性(高分子結構和分子量)的影響。通常填充的行為會受到通孔的深寬比、通孔的密度、填充01充材料的厚度；140nm和160nm來研究填充材料的化性和厚度對填充行為的影響。本文使用三種不同化性的填充材料，及選擇兩種不同的填02(圖一)如(圖一)所示，在兩種不同圖案的密度、兩種不同的填充材料的厚度(140nmand160nm)和三種不同填充材料的化性其填充特性的剖面圖。填充的行為很難定量，但由此剖面圖顯示比較厚的填充材料，會有比較小的高低落差(I-Dbias)。(圖二)如(圖二)所示，材料C有較大的操作條件，在較厚的厚度下有最小的高低落差。在此專對蝕刻選擇比及吸光係數的關係做一探討。針對於高分子的蝕刻速率，其定義如下：Ohnishinumber=TotalAtomicNumber/(TotalCarbonNumber–TotalOxygenNumber)?(b)蝕刻選擇比及吸光係數(圖三)Ohnishinumber和蝕刻選擇比的關係圖三顯示，當使用CF4/O2/Ar為蝕刻反應氣體時，Ohnishinumber和蝕刻選擇比有很強的正相關性(圖四)Ohnishinumber和吸光係數的關係如圖四所示，Ohnishinumber和吸光係數有著很強的負相關性，也由此可得知蝕刻選擇比、吸光係數和Ohnishinumber是相互關連的。(c)與光阻劑的相容性1光阻劑的相容性對於一個有著高低落差的微影製程，是非常重要的，2主要是因為相容性低的材料易於造成圖案的倒塌。5著相對較低的倒塌，其中“X”表示倒塌，“V”表示沒有發現倒塌。4如圖五所示，材料C1顯示有較佳的相容性，因為其相同的實驗條件下有3(圖五)圖案的倒塌率和材料的關係圖最後根據以上之研究結果可知，被設計用來使用在雙鑲崁製程的主要的三項需求為:較低的高低落差填充性高的蝕刻選擇比且最適化的吸光係數以獲得較佳的線寬分布良好的光阻劑相容性以提供較為寬廣的操作條件光學上的抗反射原理與厚度的相乘積等於入射波長１/４奇數倍的效應而產生干涉效果，以獲得抗反射效果。主要是利用光線在不同介質中藉由控制反射塗層之折射率抗反射材料的應用產品個人電腦、筆記型電腦數位相機、手錶鏡面行動電話、PDALCDTV、PSP抗反射玻璃門，質量參差不齊。透光度達到99%，畫面清晰鲜明。這種在市場上比較熱技術，不含膠水可多次黏貼。耐磨度極高、耐用。外線。防反光，抗電磁輻射,有效過濾紫外線。静電吸附厚度:0.25mm左右。防反光，抗電磁幅射，有效過濾紫基本上採用pet材質，三層防刮抗電磁輻射結構。保護膜應用於電子產品-保護模貼AR防反光防電磁輻射保護膜抗反射玻璃原理:利用特殊工藝的雙面防反射涂層，與普通玻璃相比，光的平均透過率提高5%，反射率由8-10%降低到1.5%以下。12抗反射玻璃應用太陽能電池玻璃蓋板，提高光電轉換效率。抗反射玻璃應用http://平板式太陽能熱水器玻璃蓋板，提高光熱轉換效率