《氧化镍薄膜的射频反应磁控溅射制备与电致变色性能行为》.docxVIP

《氧化镍薄膜的射频反应磁控溅射制备与电致变色性能行为》.docx

1、本文档共17页，其中可免费阅读6页，需付费70金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

《氧化镍薄膜的射频反应磁控溅射制备与电致变色性能行为》

氧化镍薄膜的射频反应磁控溅射制备及其电致变色性能行为研究

一、引言

氧化镍（NiO）薄膜因其在电致变色领域中的潜在应用价值而备受关注。本文通过射频反应磁控溅射法制备了高质量的氧化镍薄膜，并对其电致变色性能行为进行了深入研究。本文旨在探讨制备工艺对薄膜性能的影响，以及其在电致变色器件中的应用。

二、射频反应磁控溅射制备氧化镍薄膜

2.1制备方法

射频反应磁控溅射是一种常用的制备薄膜材料的技术。该方法通过在真空环境中，利用射频电场和磁场共同作用，将靶材表面的原子溅射出来，并在基底上沉积形成薄膜。在制备氧化镍薄膜时，我们选择高纯度的镍靶材，通

该用户很懒，什么也没介绍

咨询Ta 进入空间

更多 >