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12.2按比例缩小本节内容
MOSFET发展
几种缩小方式
完全按比例缩小方式中的参数变化
缩小带来的问题:短沟道效应
2018/11/20
12.2按比例缩小MOSFET发展
MOSFETIC的发展趋势:摩尔定律
芯片中的晶体管数每18~24个月左右会翻一翻
工艺特征尺寸(最小L):0.25um→0.18um→0.13um→90nm→60nm
→45nm→32nm→22nm→14nm
器件尺寸缩小比例:L`→kL,缩小因子k≈0.7,面积减小0.7*0.7=0.49
互联线的尺寸也在缩小
按比例缩小的目标:
减小器件尺寸
提高器件的驱动电流
降低电源电压
减小负载总电容
12.2按比例缩小MOSFET发展
尺寸缩小好处:单管尺寸减小
提高集成度:同样功能所需芯片面积更小
提升功能:同样面积可实现更多功能
降低成本:单管成本降低
改善性能:器件和互连电容减小→电路延时减小→速度加快;
电容和电源电压减小→器件的功耗降低
按比例缩小的约束条件:若尺寸缩小30%,则
关态电流要保证足够低•栅延迟减少30%,
工作频率增加43%
尽可能减小短沟道效应
•单位面积的晶体管数目加倍
保证电路的可靠性•每次切换所需能量减少65%
•节省功耗50%
12.2按比例缩小缩小方式
恒场按比例缩小(ConstantElectrical完全按比例缩小FullScaling)
尺寸(水平尺寸和垂直尺寸)与电压按同样比例缩小
电场强度保持不变
最为理想,但难以实现
一些和材料密切相关的参数,如V不能按比例缩小
T
恒压按比例缩小(ConstantVoltage:FixedVoltageScaling)
尺寸按比例缩小,电压保持不变
L1um,保持标准的5V电源电压
电场强度随尺寸的缩小而增加,强场效应加重
一般化按比例缩小(GeneralScaling)
尺寸和电场按不同的比例因子缩小
迄今为止的实际做法
2018/11/20
12.2按比例缩小完全按比例缩小:规则
E不变栅漏压要匹配
x
LkLVDSkVVkV,VkV
DSGSGSTT
E不变
y
toxktox,
V
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