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当位错密度不十分高时,其对材料导电能力的影响并不十分显著。若以每5(沿位错线的原子间距)一个悬挂键来计算,当位错密度为105cm-2时,位错引入的电子态的体密度只约为105/5×10-8=2×1012cm-3。通常使用的半导体的掺杂浓度在1015cm-3上下。相比之下位错的影响可以忽略不计。此外,由于位错附近是一个较强的晶格形变区域,重金属杂质特别容易在位错附近析出。这些金属析出物可以使某些半导体器件的性能劣化。*6.6位错的应力场与弹性应变能晶体中的位错在运动过程中与其它位错和点缺陷发生交互作用,这些交互作用是通过其应力场实现的。要形成应力场就要做功,此功储存在位错中,这就是弹性应变能。而一根位错线的总能量与其长度成正比,为降低总能量就要缩短长度,此种缩短的倾向就表现为线张力。因而位错的应力场、弹性应变能和线张力这三个问题在此一起讲述。6.6.1位错的应力场1.位错的连续介质模型早在1907年,伏特拉(VolterraV.)等在研究弹性体形变时,提出了连续介质模型。位错理论提出以后,人们借用该模型来处理位错的长程弹性性质问题。1)位错弹性连续介质模型的一些简化假设首先,用连续的弹性介质来代替实际晶体,由于是弹性体,所以符合胡克定律;其次,近似地认为晶体内部由连续介质组成,晶体中没有空隙,因此晶体中的应力、应变、位移等是连续的,可用连续函数表示;最后,把晶体看成是各向同性的,这样晶体的弹性常数(弹性模量、泊松比等)不随方向而改变。这样就可以应用经典的弹性理论计算应力场。这种理论模型忽略了晶体结构,因此不能处理原子严重错排的位错线中心区,但对中心区以外的区域的问题所得结果是可靠的。所以分析位错应力场时,常设想把半径约为0.5~1nm的中心区挖去,而在中心区以外的区域采用弹性连续介质模型导出应力场公式。2.应力与应变的表示法(1)应力分量:物体中任意一点可以抽象为一个小立方体,其应力状态可用9个应力分量描述,它们是σxx、τxy、τxz、τyx、σyy、τyz、τzx、τzy和σzz。其中,第一个下标符号表示应力作用面的外法线方向,第二个下标符号表示该应力的指向。如τxy表示作用在与yOz坐标面平行的小平面上,而指向y方向的力,显而易见,它表示的是切应力分量。同样的分析可以知道:σxx、σyy、σzz3个分量表示正应力分量,而其余6个分量全部是切应力分量。平衡状态时,为了保持受力物体的刚性,作用力分量中只有6个是独立的,它们是σxx、σyy、σzz、τxy、τxz和τyz。而τxy=τyx,τxz=τzx,τyz=τzy。同样在柱坐标系中,也有6个独立的应力分量:σrr、σθθ、σzz、τrθ、τrz和τθz。(2)应变分量:与6个独立应力分量对应,也有6个独立应变分量,在直角坐标系中为3个正应变分量εxx、εyy、εzz和3个切应变分量γxy、γxz和γyz,在柱坐标系中为εrr、γθθ、εzz、γrθ、γrz和τθz。3.螺型位错的应力场图6-28是分析螺型位错的应力场时采用的连续介质模型。将一弹性圆柱体挖去半径为r0的中心区后,沿xz面切开,然后使两个切开面沿z轴移动一个柏氏矢量b的距离,再把这两个面粘结。这样,该圆柱体的应力场与位错线在z铀,柏氏矢量为b,滑移面为xOz的螺型位错周围的应力场相似。采用圆柱坐标,这时对圆柱体上的各点产生两种切应变,即γθz和γzθ,且γθz=γzθ。(6-31)由胡克定律可知(6-32)式中,G是切变模量,其它应力分量都为0,即(6-33)图6-28螺型位错的连续介质模型从以上的分析可以看出,螺型位错的应力场中没有正应力分量,只有两个切应力分量,并且切应力分量的大小仅与r有关,而与θ、z无关,即螺型位错的应力场是轴对称的。此外,由式(6-31)可知,当r=0时,得出的切应力为无穷大,所以该公式不适用于位错中心处。采用直角坐标时,螺型位错应力场表达式为(6-34)3.刃型位错应力场刃型位错的应力场比较复杂,但仍可用同样的方法分析。图6-29是分析刃型位错的应力场时采用的连续介质模型。将一弹性圆柱体挖去半径为r0的中心区后,沿xOz面切开。然后使两个切开面沿x轴移动一个柏氏矢量b的距离,再把这两个面粘结。这样,在该圆柱体内产生了与位错线在z轴,柏氏矢量为b,滑移面为xOz的刃型位错相似的应力场。用弹性理论可推导出刃型位错的应力场公式,即(6-35)若用圆柱坐标表示,则为(6-36)式(6
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