TGVS-半导体远程等离子体源的解离率测试方法及编制说明.pdf

ICS71.040.99

CCSN51

TGVS

团体标准

T/GVSXXX—2024

半导体远程等离子体源的解离率测试方法

Testmethodfordissociationrateofsemiconductorremoteplasma

source

（征求意见稿）

2024-XX-XX发布2024-XX-XX实施

广东省真空学会发布

T/GVSXXX—2024

目次

前言II

引言III

1范围4

2规范性引用文件4

3术语和定义4

4原理5

5符号与缩略语5

6测试环境条件5

7仪器设备及样品5

8操作准备6

9测试步骤6

10数据处理8

11测量不确定度9

12试验报告9

附录A（规范性）远程等离子体源的解离率试验报告样式10

I

T/GVSXXX—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由季华实验室提出。

本文件由广东省真空学会归口。

本文件起草单位：季华实验室、深圳市恒运昌真空技术股份有限公司、江苏神州半导体科技有限公

司、中山凯旋真空科技股份有限公司、XXX、XXX、XXX。

本文件主要起草人：胡强、陈泽廷、郭晓东、杨振怀、黄星星、苏垦英、肖永能、郭远军、何斌、

黎天韵、张清培、黄小婵、朱国俊、潘小刚、乐卫平、刘涛、林桂浩、林伟群、何志军、张文杰、卫红、

XXX、XXX、XXX、XXX、XXX。

本文件为首次发布。

II

T/GVSXXX—2024

引言

半导体制造过程工艺复杂，远程等离子体源在高精度半导体工艺中的应用越来越广泛，远程等离子

体源是一种将等离子体生成区域和处理区域物理分离的设备，通过高频电磁场（如射频或微波）在生成

室中激励气体（如氢气、氧气、氮气）形成等离子体，然后将生成的活性粒子传输到处理区域，与待处

理材料发生作用。活性粒子对待处理材料的作用效果对解离率有着较高的要求。因此，远程等离子体源

的解离率的准确测量是保证半导体制造工艺的稳定性的必要前提之一。

通过本文件的制定为半导体远程等离子体源研发、制造企业提供一套技术规范，促进半导体远程等

离子体源技术发展及国产化进程，为我省半导体装备产业以及芯片制造行业迈向中高端水平提供保障。

III

T/GVSXXX—2024

半导体远程等离子体源的解离率测试方法

1范围

本文件规定了半导体远程等离子体源