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磁控溅射中等离子体特性分布模拟及靶材溅射特性研究

一、引言

磁控溅射作为一种重要的物理气相沉积技术，被广泛应用于薄膜制备领域。该技术中，通过高能粒子对靶材进行轰击，从而实现物质转移和薄膜的生成。而在这个过程中，等离子体的特性分布和靶材的溅射特性起着至关重要的作用。本文旨在通过模拟磁控溅射中等离子体的特性分布，以及研究靶材的溅射特性，以期对磁控溅射技术的优化提供理论依据。

二、等离子体特性分布模拟

1.模型建立

等离子体在磁控溅射中具有重要地位，它直接影响了薄膜的形成和质量。为研究等离子体的特性分布，首先建立合理的模型。模型包括：磁场的设置、电子的传输和散射过程、粒子之间的相互作用等。此外，需