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IntroductionofPVDcoatingtechnology
PVD涂层工艺介绍;Thecoatingformationconsistsofthreemainphases
涂层形成的三个主要阶段;ThreemainPVDcoatingtechniqueshavebeenestablishedinthemarket
市场上的三种主要的PVD涂层技术;IonPlating-Electronbeamvaporization,principle
离子镀－电子束蒸发，原理;IonPlating-Electronbeamvaporization
离子镀－电子束蒸发;Principle原理:
1. Titaniumisthermallyvaporizedandionizedbyanelectronbeam(200A)钛被热蒸发，并被电子束离子化〔200A)
2. Thesubstratesareheldatanegativevoltagetoattracttheions基体被固定在负电压上以吸引离子
3. The(positive)ionsreactwiththenitrogenthatisfedintoformtitaniumnitride正离子与氮气反响并形成钛涂层;2.ArcIonPlating(AIP)–Principle
电弧镀－原理;2.ArcIonPlating(AIP)-Electricarconacoatingtarget
电弧镀－涂层靶材上的电弧;2.ArcIonPlating(AIP)–Characteristics
电弧镀－特性;2.ArcIonPlating(AIP)-Dropletcreation
电弧镀－液滴形成;3.MagnetronSputtering(MSIP)–Principle
磁控溅射－原理;3.MagnetronSputtering(MSIP)-Influenceofthemagneticfield
磁控溅射－磁性区的影响;3.MagnetronSputtering(MSIP)usingAr/N2gasmixture
磁控溅射使用Ar/N2混合气体;;drillpoint钻点;Coating涂层;Page17 BusinessUnitCoatingServices/June2007
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