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石墨烯单晶晶圆的化学气相沉积外延生长
目录
石墨烯单晶晶圆的化学气相沉积外延生长（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
一、内容概括．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
背景介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
研究目的与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
二、石墨烯及单晶晶圆概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
石墨烯的性质和特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
单晶晶圆的制备工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
石墨烯在单晶晶圆上的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
三、化学气相沉积技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
CVD技术的基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
CVD设备的组成及工作流程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
CVD在石墨烯制备中的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
四、外延生长技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
外延生长的基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
外延生长的分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
外延生长在石墨烯制备中的优势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
五、石墨烯单晶晶圆的化学气相沉积外延生长工艺．．．．．．．．．．．．．．18
工艺流程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
工艺参数的影响与优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
工艺流程中的注意事项．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
六、实验设计与实施．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
实验材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
实验设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
实验步骤．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
数据记录与分析方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
七、结果与讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
实验结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
结果与其他研究的对比．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
结果讨论与解释．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
八、结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
研究成果总结．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
研究成果的意义与价值．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
对未来研究的展望与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
石墨烯单晶晶圆的化学气相沉积外延生长（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．38
内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
1.1石墨烯概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
1.2石墨烯单晶晶圆的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39
1.3化学气相沉积技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40
石墨烯单晶晶圆的制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
2.1CVD技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．
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