湿法工艺浓度监测计，全球前10强生产商排名及市场份额（by QYResearch）.pdf

全球市场研究报告

湿法工艺浓度监测计产品定义

湿法工艺浓度监测计可用于精确监测和控制半导体晶圆制造过程中溶液的浓度，这些设备在确保蚀刻、清

洁等半导体制程化学溶液浓度的一致性、质量和效率方面发挥着关键作用。

湿法工艺浓度监测计产品图片

如上图表/数据，摘自QYResearch必威体育精装版报告“全球湿法工艺浓度监测计市场研究报告2024-2030”.

湿法工艺浓度监测计行业观点

当前，全球人工智慧（AI）、高效能运算（HPC）需求的爆发式增长，在前沿技术的开发进度、产品的商业

化落地、市场开拓以及产业链布局等方面进展加速，有效带动相关算力、存储晶片的市场需求。智慧可穿戴

设备、智慧家居等新兴消费电子产品经过过去两年的技术改进和生态构建，诞生了诸如AppleVision等热点

产品，成为推动半导体市场增长的重要动力。汽车电子、锂电、光伏等前期高速增长领域进入技术路线选择

与技术格局重构关键视窗期工业互联网、智慧医疗、智慧城市等新业态、新模式加速转变，赋济社会发展，

带来整体半导体市场需求的提升。根据世界积体电路协会（WICA）统计，2024年全球半导体市场规模为

6202亿美元，同比增长17%。

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从产品结构来看，预计主要两个积体电路类别将以两位数的增长推动市场的增长，逻辑晶片预计增速为21%，

记忆体预计增速61.3%。其他品类如分立器件、光电子器件、感测器和类比晶片预计将出2%-10%的负增

长。得益于ChatGPT等AI大模型对算力晶片需求的激增，2024年GPU、FPGA、ASIC等逻辑晶片市场增

速高于行业平均增速4个百分点。当前市场对Hopper需求依然强劲，AI厂商对Blackwell期待持续增长。

随着AI大模型的反覆运算升级，未来市场对高性能逻辑晶片的需求将持续上升。到2030年，半导体市场

规模预计将达到10000亿美元，年复合增长率约为8%。

湿法工艺浓度监测计是晶圆生产中贯穿蚀刻和清洗等过程的重要设备。用于精确监测各种化学溶液的浓度。

在半导体制造过程中，一致的化学浓度对于确保晶圆的质量、可靠性和性能至关重要。根据我们的数据，

2024年全球湿法工艺浓度监测计销量为6600台，预计到2030年将突破10000台，复合年增长率约为

8.3%。

从生产地区来看，以HORIBA、KURABOINDUSTRIES、FujiUltrasonicEngineering等制造商为代表的日本

在2024年贡献了该行业80%以上的产量，其次是欧美地区。从消费地区来看，2024年亚太地区约占全球

收入份额的75%，而中国、日本、台湾和韩国等主要国家将分别占亚太地区收入的27%、25%、21%和

18%。

目前湿法工艺浓度监测计市场的主要参与者包括HORIBA、Entegris、KURABOINDUSTRIES、ABB、CISemi

（CISystems）、FujiUltrasonicEngineering、SensoTech、PIMACS、RhosonicsBV、KxSTechnologies等。

2024年，全球TOP5占据90%以上的市场份额，根据我们的分析，短期内行业仍将保持较高的集中度。湿

法工艺浓度监测计主要可以分为在线型和离线型，2024年在线型产品市场份额超80%，在线型能实时监测

化学溶液的浓度变化，并即时反馈至生产控制系统，是实现半导体生产自动化、智能化的重要一环。半导体

湿式清洗环节对于提升产品良率和可靠性具有重要意义，也是湿法工艺浓度监测计的主要应用领域，2024

年半导体清洗领域的市场占比近60%。

随着全球科技产业的快速发展，半导体产业作为现代科技的核心驱动力之一，其市场规模将会不断扩大，这

为湿法工艺浓度监测计市场的快速发展提供了有力的驱动。

湿法工艺浓度监测计全球市场总体规模

据QYResearch调研团队必威体育精装版报告“全球湿法工艺浓度监测计市场报告2024-2030”显示，预计2030年全

球湿法工艺浓度监测计市场规模将达到2.4亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.4%。

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图.湿法工艺浓度监测计，全球市场总体