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1.(2024·全国甲卷)下列过程对应的离子方程式正确的是()
2--+
A.用氢氟酸刻蚀玻璃:SiO+4F+6HSiF↑+3HO
342
3+2+
B.用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板:2Fe+3Cu3Cu+2Fe
2-2--+
C.用硫代硫酸钠溶液脱氯:SO+2Cl+3HO2SO+4Cl+6H
23223
D.用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙:CaSO+CO2-CaCO+SO2-
4334
答案:D
解析:用氢氟酸刻蚀玻璃时,正确的化学方程式为SiO+4HFSiF↑+2HO,A错误;三
242
3+2+2+
氯化铁刻制铜电路板时反应的离子方程式为2Fe+Cu2Fe+Cu,B错误;用硫代硫
2-2--+
酸钠溶液脱氯反应的离子方程式为SO+4Cl+5HO2SO+8Cl+10H,C错误。
23224
2.(2024·新课标卷)对于下列过程中发生的化学反应,相应离子方程式正确的是()
+-+
A.试管壁上的银镜用稀硝酸清洗:Ag+2H+NOAg+NO↑+HO
322
2+2+2-
B.工业废水中的Pb用FeS去除:Pb+SPbS↓
-2-+
C.海水提溴过程中将溴吹入SO吸收塔:Br+SO+2HO2Br+SO+4H
22224
-2-+2+
D.用草酸标准溶液测定高锰酸钾溶液的浓度:2MnO+5CO+16H2Mn+10CO↑
4
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