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芯片光刻胶封装材料产业趋势分析与展望

前言

随着半导体工艺向更高精度、更小尺寸的方向发展，光刻胶封装材料的技术也在不断进步。从传统的深紫外光刻胶（DUV）到极紫外光刻胶（EUV），光刻胶材料的技术创新不断推动着芯片制造工艺的提升。未来，随着极紫外（EUV）光刻技术的普及，光刻胶封装材料的市场需求将发生重大变化。这要求光刻胶封装材料不仅要具备更高的分辨率，还要具备更高的耐蚀性和抗热性，以适应新的技术要求。

全球化供应链的变化和国际贸易格局的调整也对芯片光刻胶封装材料行业产生了重要影响。全球半导体产业链逐渐呈现出区域化趋势，特别是在全球政策经济环境复杂多变的背景