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自动曝光控制系统Part影像设备学课件.pptx

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自动曝光控制系统主讲老师:洪国慧Part2.4.9《影像设备学》

穿透力曝光量产生X线的灯适中曝光过度曝光不足影响影像的分辨率引言

选择好对应的参数→开始曝光X线量的控制预估法预估失误本次曝光失败需要进行二次曝光,既增加了成本,也加大了被检者的辐射剂量引言

自动曝光控制系统设计理念将主观估计曝光参数变成客观测量透过患者的X线剂量而控制曝光终止的系统1929X线胶片荧光屏最大障碍思考是根源

科技才是第一生产力、科技才是核心竞争力思考是根源

从模拟到数字——质的飞越网络传输图像后处理远程会诊数字化存储无胶片污染

原理阐述

危机意识——居安思危

崛起2000年淘汰落幕2005年方向错误敝帚自珍不重视科技研发对行业动态没有高度的敏锐度方向比努力更重要

automaticexposurecontrol即:AEC光电管电离室原理阐述

原理阐述

automaticexposurecontrol原理阐述

原理阐述

电离室整个自动曝光控制系统的主要部件X线辐射测量的设备原理阐述

原理阐述

原理阐述

原理阐述

三野测量注意事项

并非所有的不足都有弥补的办法KV低X线能量低穿透力弱补偿无效预置的曝光条件要大于实际的曝光条件,以防曝光量不足的情况下被提前中断。三野测量注意事项

注意事项

总结1自动曝光控制系统的发展史2AEC电离室的工作原理3AEC电离室的注意事项

总结

通过自动曝光控时装置的发展史,我们明白了创新思维的重要性,这对我们的职业生涯规划和人生启迪是什么?课后习题

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