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全氢聚硅氮烷绝缘介质层：制备工艺、性能优化与多元应用探索.docx

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    全氢聚硅氮烷绝缘介质层：制备工艺、性能优化与多元应用探索

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在现代科技迅猛发展的浪潮中，材料科学作为推动各领域技术革新的关键力量，始终处于前沿研究的核心地带。全氢聚硅氮烷（Perhydropolysilazane，PHPS）作为一种极具潜力的新型材料，因其独特的分子结构和优异的性能，在众多领域展现出了巨大的应用价值，成为了材料科学领域的研究热点之一。

    全氢聚硅氮烷是一类主链以Si-N键为重复单元的无机聚合物，其分子结构中硅原子与氮原子交替排列，形成了稳定且独特的骨架结构。这种特殊的结构赋予了全氢聚硅氮烷许多优异的性能，使其在多个领域中发挥着不可或缺的作用

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