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半导体光催化过氧化氢合成研究进展

目录

半导体光催化过氧化氢合成研究进展（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

内容概括．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.2过氧化氢的简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.3半导体光催化的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

半导体光催化基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

2.1半导体的基本性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

2.2光催化反应原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

2.3半导体光催化剂的分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

过氧化氢合成方法概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

3.1化学氧化法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

3.2生物氧化法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

3.3光催化氧化法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

半导体光催化过氧化氢合成研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

4.1半导体材料的研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

4.1.1无机半导体材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

4.1.2有机半导体材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

4.1.3复合半导体材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

4.2光催化剂的改性研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

4.2.1表面酸碱性改性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

4.2.2表面掺杂改性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

4.2.3结构优化改性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

4.3反应条件的优化研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

4.3.1光源的选择与优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

4.3.2反应温度的优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

4.3.3溶剂和pH值的优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

4.4合成机理的研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

4.4.1光催化剂的活化机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

4.4.2催化剂与过氧化氢之间的相互作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

4.4.3反应动力学研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

代表性研究案例分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

5.1某些特定半导体光催化剂的设计与制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

5.2某些典型反应条件下的性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

5.3某些创新性合成策略的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

展望与挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

6.1当前研究的局限性与不足．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

6.2未来可能的发展方向．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

6.3面临的主要挑战与应对策略．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

半导体光催化过氧化氢合成研究进展（2