EUV诱发等离子体的演变与调控：机理、方法与应用探索.docx

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2025-03-07 发布于上海
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EUV诱发等离子体的演变与调控：机理、方法与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，半导体制造作为信息技术产业的核心，其工艺的进步对于推动电子设备的小型化、高性能化以及多功能化起着至关重要的作用。而极紫外（EUV）技术，作为半导体制造领域的关键技术之一，正逐渐成为研究的焦点。随着集成电路特征尺寸不断缩小，传统光刻技术面临着分辨率极限的挑战，EUV光刻技术因其能够生成更小、功效更强的半导体芯片而受到广泛关注。EUV技术利用波长仅为13.5纳米的极紫外光，能够精确刻画芯片中的微小结构，使得集成电路的尺寸不断缩小，运算速度与能源效率得到显著提高。近年来，台积电和