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总结
第一章、半导体中的电子状态习题
1・1、什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说
明之。
1・2、试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。
31-、试指出空穴的主要特征。
1.4、简述Ge、Si和GaAS的能带结构的主要特征。
1.5、某一维晶体的电子能带为
E(k)=£*()[1-0.Icos(如)-0.3sin(A〃)]
其中Eo=3eV,晶格常数a=5xl0m。求:
(1)能带宽度;
(2)能带底和能带顶的有效质量。
题解:
1.1、解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(NEQ被激发到导带成
为导电电子的过程就是本征激发。其结果是在半导体中出现成对的电子・
空穴对。如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有
更多的电子被激发到导带中。
1・2、解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。温
度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变
宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。反之,温度降低,将导致禁
带变宽。因此,Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数。
1・3、解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的
集体运动状态,是准粒子。主要特征如下:
A、荷正电:+q;
B、空穴浓度表示为p(电子浓度表示为n);
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2024年大学专业课考试资料:半导体物理学知识点归纳
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C、Ep=-En
D、mp*=-mn*o
41-、解:
(1)Ge、Si:
a)Eg(Si:0K)=1.21eV;Eg(Ge:0K)=1.170eV;
b)间接能隙结构c)禁带宽度Eg随温度增加而减小;
(2)GaAs:
a)Eg(300K)=1.428eV,Eg(OK)=1.522eV;
b)直接能隙结构;
c)Eg负温度系数特性:dEg/dT=-3.95X104eV/K;
1・5、解:
(1)由题意得:
——=0.\aEQ
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