磁性多层膜与亚铁磁合金中零场斯格明子的特性、形成机制及应用前景探究.docx

磁性多层膜与亚铁磁合金中零场斯格明子的特性、形成机制及应用前景探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在凝聚态物理领域，探索新型拓扑自旋结构一直是研究的前沿热点。零场斯格明子作为一种具有独特拓扑性质的自旋结构，自被发现以来，便吸引了众多科研人员的目光。斯格明子最初由英国物理学家托尼?斯格明（TonySkyrme）在20世纪60年代为描述原子核结构而提出，在之后的研究中，其在磁性系统中被广泛关注。它是一种纳米尺度上的拓扑稳定准粒子，具有涡旋状的自旋构型，其拓扑电荷描述了磁矩的“缠绕”方式，赋予了斯格明子拓扑稳定性。

在磁性材料中，斯格明子的形成与Dzyaloshinskii-