基于卷积的极紫外光刻空间像快速仿真模型：理论、实践与创新.docx

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2025-03-09 发布于上海
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基于卷积的极紫外光刻空间像快速仿真模型：理论、实践与创新

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，芯片作为各种电子设备的核心组件，其性能的提升对于推动科技进步起着至关重要的作用。而极紫外光刻技术，作为芯片制造领域的关键技术，正逐渐成为研究的焦点。随着摩尔定律的不断推进，芯片制造商一直在追求更小的晶体管尺寸和更高的集成度，以满足日益增长的计算需求和降低功耗。极紫外光刻技术采用波长为13.5nm的极紫外光进行光刻，相较于传统光刻技术，能够实现更精细的电路图案刻画，是实现芯片制程进一步缩小的关键。例如，在5nm及以下工艺制程芯片生产中，极紫外光刻技术起着不可或缺的作用，它能够使芯