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纳米金刚石硅-空位色心：制备工艺与光学性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

随着科技的迅猛发展，纳米材料在各个领域展现出了巨大的应用潜力。纳米金刚石作为一种独特的纳米材料，因其卓越的物理和化学性质，如高硬度、高导热性、化学稳定性以及良好的生物相容性等，在众多领域受到了广泛关注。而纳米金刚石中的硅-空位色心（Si-V色心），作为一种具有特殊光学性质的点缺陷，更是成为了近年来研究的热点。

在量子信息领域，量子比特是量子计算和量子通信的核心单元。纳米金刚石Si-V色心由于其具有长的自旋相干时间、可室温操作以及与光子的强相互作用等特性，被视为极具潜力的量子比特候选者。