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基于多重掩膜版的交互式图形处理技术与冲突检测机制的深度剖析与实践应用

一、引言

1.1研究背景与意义

随着信息技术的飞速发展，交互式图形处理在众多领域，如计算机辅助设计（CAD）、虚拟现实（VR）、增强现实（AR）以及游戏开发等，都发挥着至关重要的作用。在这些应用场景中，对图形的精细度、复杂度以及实时交互性的要求不断攀升。多重掩膜版技术作为提升图形处理质量和效率的关键手段，逐渐成为该领域的研究热点。

在半导体制造领域，光刻工艺是决定芯片性能和集成度的核心环节。随着芯片制程技术朝着更小尺寸发展，传统光刻工艺面临着分辨率极限的挑战。多重掩膜版技术通过将复杂的图形分解到多个掩膜版上，在不同的光刻步