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半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征
目录
半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
一、内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
内容概览．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.1半导体芯片废水处理的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
1.2废水处理工艺的发展概况．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
半导体芯片废水特征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
2.1废水来源及成分．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
2.2废水水质波动及特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
二、高标准处理工艺概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
高标准处理工艺定义及目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
1.1工艺效能标准．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
1.2工艺设计原则．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
高标准处理工艺技术应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
2.1物理处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
2.2化学处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
2.3生物处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
三、半导体芯片废水处理工艺效能特征分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
处理效率及稳定性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
1.1去除效率对比研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
1.2稳定性评估指标及方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
能耗及成本控制分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
2.1工艺流程的能耗评估．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
2.2成本控制策略及实施效果．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
环境友好性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
3.1污染物减排效果评估．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
3.2环境影响评价．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
四、半导体芯片废水处理工艺优化措施．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
工艺参数优化调整．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
1.1操作条件优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
1.2反应器设计改进．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
新技术应用及推广．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
2.1新兴技术介绍及应用前景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
2.2技术推广的瓶颈及解决方案．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
五、案例分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
典型案例选取及介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
案例分析总结及启示．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
六、结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．30
内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．
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