中微公司-市场前景及投资研究报告-国产刻蚀，MOCVD龙头，高端装备平台.pdf

证券研究报告|首次覆盖报告

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20250321

年月日

中微公司（688012.SH）

国产刻蚀+MOCVD龙头，加速打造高端装备平台

二十余载砥砺前行，国产高端装备平台领军者。中微公司成立于2004年买入（首次）

5月，当前公司已形成以刻蚀设备、MOCVD设备为基，向薄膜沉积设备、股票信息

量检测设备等拓展的平台化发展格局。公司目前等离子体刻蚀设备技术能

行业半导体

力达到5纳米级以下，未来还将继续开发更先进工艺水平，市占率持续提

03月13日收盘价（元）199.69

升并不断收到领先客户批量订单。MOCVD设备在MiniLED等氮化镓基设

备领域市场占据领先地位，未来还将持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率总市值（百万元）124,279.81

器件及Micro-LED器件制造的MOCVD设备。24H1实现薄膜设备的首台总股本（百万股）622.36

销售，公司还在规划多款CVD和ALD设备，增加薄膜设备覆盖率。伴随其中自由流通股（%）100.00

高研发转换效率，公司营收业绩稳健增长，收入和归母净利润分别从201830日日均成交量（百万股）10.50

年的16.39/0.9亿元增长到2024年的约90.65/16.3亿元，复合增速分别股价走势

达到33.0%/61.7%。

中微公司沪深300

70%

CCP领域技术领先，ICP设备付运势头强劲。刻蚀是半导体图案化过程的

核心工艺，全球范围来看，LAM、AMAT、TEL等企业占据市场主导地位。50%

受益于芯片向更先进制程演进及存储器件垂直化发展，叠加多重曝光下刻30%

蚀工艺步骤提升，刻蚀设备重要性进一步提升。中微公司凭借系列刻蚀设

10%

备组合处于刻蚀创新技术前沿，市占率大幅提升，截至2024年第三季度，

公司累计交付CCP反应台超3800个，设备覆盖28纳米以上逻辑器件制-10%

造绝大部分CCP刻蚀应用，公司ICP设备拥有700+反应台在线生产，覆-30%

盖95%以上刻蚀应用。其中，Nanova单台机订单年增长超100%迅速扩2024-032024-072024-112025-03

大市占率，PrimoUD-RIE已在生