TCSTM-多层金属薄膜结构分析测量方法 X射线光电子能谱.pdf

ICSXX.XXX.XX

CCSXXXX

团体标准

T/CSTMXXXXX—202X

多层金属薄膜结构分析测量方法X射线

光电子能谱

Methodsforanalysisandmeasurementofmultilayermetallicfilmstructures

X-rayphotoelectronspectrometer

（征求意见稿）

202X-XX-XX发布202X-XX-XX实施

中关村材料试验技术联盟发布

T/CSTMXXXXX—2020

前  言

本文件参照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》，GB/T20001.4

《标准编写规则第4部分：试验方法标准》给出的规则起草。

本文件由中国材料与试验团体标准委员会科学试验领域委员会（CSTM/FC98）提出。

本文件由中国材料与试验团体标准委员会科学试验领域技术委员会（CSTM/FC98/TC02）归口。

I

T/CSTMXXXXX—2020

引言

本文件的发布机构提请注意，声明符合本文件时，可能涉及到202210990257.0[未知样品层结

构深度剖析方法]相关的专利的使用。

本文件的发布机构对于该专利的真实性、有效性和范围无任何立场。

该专利持有人已向本文件的发布机构承诺，他愿意同任何申请人在合理且无歧视的条款和条件

下，就专利授权许可进行谈判。该专利持有人的声明已在本文件的发布机构备。相关信息可以通过

以下联系方式获得：

专利持有人姓名：范燕,谭军,姜传斌

地址：528200广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号

请注意除上述专利外，本文件的某些内容仍可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责

任。

1

T/CSTMXXXXX—2020

多层金属薄膜结构分析测量方法X射线光电子能谱

警示——使用本文件的人员应有正规实验室工作的实践经验。本文件并未指出所有可能的安全问

题。使用者有责任采取适当的安全和健康措施，并保证符合国家有关法规规定的条件。

1范围

本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析检测多层金属薄膜结构的方法。

本文件适用于70~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分（H、He元素除外，且相对原子百分

含量需高于1%）、化学态、膜厚的表征。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其必威体育精装版版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T41064-2021,表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子

能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

GB/T34326-2017,表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或

束流密度测量方法

GB/T29557-2013表面化学分析深度剖析溅射深度测量

GB/T33502-2017,表面化学分析X射线光电子能谱(XPS)数据记录与报告的规范要求

GBT22461-2008表面化学分析词汇

GB/T28894-2