上海新阳分析报告：电镀清洗技术国内领先，高分辨光刻胶量产在即.pdf

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上海新阳

电镀清洗技术国内领先，高分辨光刻胶量产在即

核心电镀清洗技术升级，外购拓展涂料业务。公司成立于1999年，以半

导体用电子化学品和配套设备起家，发展前十年自研第一代电子电镀和清

洗技术，半导体封装引线脚工艺取得重大突破；成立后十年，突破第二代

电镀和清洗技术，填补我国芯片制造铜互连工艺材料的空白，是目前国内

唯一能满足芯片90-14纳米铜制程全技术节点对电镀清洗产品要求的企

业，同时开发蚀刻液、研磨液、光刻胶等半导体材料。此外，公司于2013

年通过收购