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分子束外延法制备Bi系氧化物薄膜的条件优化与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学的前沿研究中，Bi系氧化物薄膜凭借其独特的物理性质和广泛的应用前景，成为了众多科研人员关注的焦点。这类薄膜在高温超导、铁电、压电以及催化等领域展现出了卓越的性能，为新型电子器件、能源存储与转换以及环境保护等方面的发展提供了新的契机。

Bi系氧化物薄膜在高温超导领域的应用备受瞩目。高温超导体的发现为电力传输、磁共振成像（MRI）等技术带来了革命性的变革。Bi系氧化物超导体具有较高的临界温度和良好的超导性能，使得在相对较高的温度下实现无电阻导电成为可能。这不仅可以降低超导应用的成本，还能拓展超导