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基于六芳基联咪唑的交联型聚氨酯正性紫外光刻胶研究.pdf

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华中科技大学硕士学位论文

摘要

正性紫外光刻胶广泛应用于集成电路和微纳器件制造。目前正性紫外光刻胶主

要以光产酸促进聚合物溶解为反应机理,易发生酸扩散而造成图形展宽,同时光化学

反应过程易伴随气体产生,造成镜头污染。因此开发结构简单、副反应少的新型高效

正性紫外光刻胶具有重要意义。“六芳基联咪唑”(HABI)是一类光开关分子,在紫

外光调控下可在三苯基咪唑自由基(TPIR)与HABI二聚体之间可逆循环。HABI具

有优良的光响应和独特的可

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