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华中科技大学硕士学位论文
摘要
随着加工技术的不断发展，集成电路、智能制造领域内器件的加工精度日益增加。
相应地，表面形貌检测仪器的检测精度也需要达到微米量级。谱域干涉测量技术具有
速度快，能三维成像等优点，常用于工业领域的样品表面检测。但是干涉测量系统中
测量光束的横向分辨率与焦深相互限制，难以同时满足高精度与大量程的双重需求。
本文优化系统测量范围的主要方式为增加系统焦深和实现动态调焦，优化后的系统能
够实现大量程范围内样品表面形貌的高精度测量。
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