网站大量收购独家精品文档,联系QQ:2885784924

T_ACCEM 515—2025(高性能高密度沟槽栅IGBT器件).pdf

T_ACCEM 515—2025(高性能高密度沟槽栅IGBT器件).pdf

  1. 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

ICS31.080.01

CCSL42

ACCEM

团体标准

T/ACCEM515—2025

高性能高密度沟槽栅IGBT器件

High-performancehigh-densitytrench-gateIGBTdevices

2025-3-20发布2025-4-18实施

中国商业企业管理协会  发布

T/ACCEM515—2025

目次

前言II

1范围1

2规范性引用文件1

3术语和定义1

4结构1

5技术要求2

6试验方法3

7检验规则3

8标志、包装、运输和贮存4

I

T/ACCEM515—2025

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。台

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由青岛佳恩半导体有限公司提出。

本文件由中国商业企业管理协会归口。

本文件起草单位:青岛佳恩半导体有限公司、青岛佳恩半导体科技有限公司、深圳佳恩功率半导体

有限公司、苏州创芯致尚微电子有限公司。平

本文件主要起草人:王丕龙、王新强、何钧、李学贵、张凯、吴洪基、陈佳恩、侯彩侠、王永铖、

朱建英、朱加庚、马丽娜、李娜、武瑶萍、邓颖、谭文涛、贾洪玉、李永、郑建国、杨玉珍、秦鹏海、

李婉秋、刘增、豆坤、李晓东、李大鑫。息

您可能关注的文档

文档评论(0)

78630559 + 关注
实名认证
内容提供者

78630559

1亿VIP精品文档

相关文档