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半导体·行业动态跟踪报告
正文目录
一、新凯来携三十余款设备惊艳亮相SEMICONChina20255
二、扩散设备：推出EPI和RTP共六款产品5
三、刻蚀设备：推出CCP、ICP、自由基干法刻蚀6
四、薄膜沉积设备：推出PVD、CVD、ALD系列产品7
五、量检测设备：推出多种类系列量检测设备族8
六、投资建议11
七、风险提示11
请通过合法途径获取本公司研究报告，如经由未经许可的渠道获得研究报告，请慎重使用并注意阅读研究报告尾页的声明内容。3/12
半导体·行业动态跟踪报告
图表目录
图表1新凯来公司5
图表2新凯来EPI设备应用场景5
图表3新凯来RTP设备应用场景6
图表4新凯来EPI设备应用场景7
图表5新凯来PVD设备应用场景7
图表6新凯来ALD设备应用场景8
图表7新凯来CVD设备应用场景8
图表8新凯来晶圆缺陷检测设备产品特点及应用场景9
图表9新凯来套刻量测设备产品特点及应用场景9
图表10新凯来X射线量测设备产品特点及应用场景10
图表11新凯来电性能检测设备产品特点及应用场景10
图表12新凯来空白掩膜缺陷检测和原子力显微镜检测设备产品特点及应用场景11
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半导体·行业动态跟踪报告
一、新凯来携三十余款设备惊艳亮相SEMICONChina2025
新凯来总部位于深圳，在上海、北京、西安、武汉、成都、杭州等国内城市以及海外设有研发中心，建立了基础材料工艺-
零部件-装备的端到端研发体系。公司致力于先进半导体工艺装备、量检测装备的开发与制造，打造可靠的产业基础和平台，
成为世界一流的半导体装备提供商和客户最信赖的伙伴。
2025年3月26日-28日，SEMICONChina2025展会在上海举办，新凯来携30余款产品亮相，产品类别涵盖扩散、刻蚀、
薄膜沉积、检量测等，初次展示了其多品类、全系列的半导体设备产品矩阵。
图表1新凯来公司
资料来源：《新凯来装备介绍》，平安证券研究所
二、扩散设备：推出EPI和RTP共六款产品
EPI，代号峨眉山，是12英寸单片减压外延生长设备，采用创新架构设计，全面覆盖逻辑及存储外延等应用场景，支持向
未来先进节点演进。产品特点：1）多分区温控和流控系统设计，实现热流场精准调控，有效提高外延膜层均匀性；2）创新
小腔室架构设计，搭配智能调度算法，实现资源高效利用，大幅降低运营成本；3）核心部件自主可控，与系统设计高度匹
配，达到最佳性能组合，有效提升设备稳定性。
图表2新凯来EPI设备应用场景
产品系列适用工艺适用材料图示
峨眉山1号源漏极锗硅外延硼掺杂锗硅,硼掺杂锗硅镓等
峨眉山2号源漏极磷硅外延磷硅，磷硅砷等
沟道外延，超晶格叠层外延，埋层外
峨眉山3号锗硅，纯硅，纯锗等
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