第6章 配位滴定法（4） 课件(共17张PPT)- 《分析化学》同步教学（冶金工业版）（含音频+视频）.pptxVIP

分析化学AnalyticalChemistry

第一章绪论第二章定量分析的一般步骤第三章误差分析数据的统计处理第四章滴定分析第五章酸碱滴定法第六章配位滴定法第七章氧化还原滴定法第八章重量分析法和沉淀滴定法第九章电位分析法第十章吸光光度法第十一章原子吸收光谱法目录

6-1概述6-2EDTA与金属离子的配合物及其稳定性6-3外界条件对EDTA与金属离子的配合物及其稳定性的影响6-4滴定曲线6-5金属指示剂确定滴定终点的方法6-6混合离子的分别滴定6-7配位滴定的方式和应用目录

由于EDTA能与许多金属离子形成稳定配合物，因此混合离子中如何滴定一种离子或分别滴定某几种离子是配位滴定需要解决的重要问题。6-6混合离子的分别滴定一、分别滴定的判断式M＋YMYY有两种副反应H+NαY=αY(H)＋αY(N)－1HYNY1、溶液酸度较高时：αY(H)＞＞αY(N)∴αY≈αY(H)，即N对络合反应基本无影响如N与指示剂不起反应，则它对M的络合滴定没有影响，与单独滴定M一样。以下推导均不做要求，只记结论。

2、溶液酸度较低时：αY(N)＞＞αY(H),αY≈αY(N)，此时N干扰最严重αY(N)==1＋KNY[N]epK’MY===一般情况[N]=cN－[NY]≈cNKNY＞＞1=1＋KNYCN则K’MY=

3、M、N分别滴定条件将式KMY=两端同乘以cM,并取对数,得lgcMKMY=ΔlgK＋lgcM/cN由上式可以得出分步滴定所应具备的条件当cM=cN时，lgcMK’MY=ΔlgK若ΔpM=±0.2Et=±0.1%则lgcMK’MY≥6ΔlgK≥6ΔpM=±0.2Et=±0.5%则lgcMK’MY≥5ΔlgK≥5ΔpM=±0.2Et=±1%则lgcMK’MY≥4ΔlgK≥4

1、混合离子分别滴定的一般步骤（1）比较各离子配合物M-EDTA的稳定常数，选定最先滴定的金属离子(KMY最大)二、用控制溶液酸度的方法进行分别滴定（2）用判别式判断最先滴定金属离子与其他离子有无干扰（3）若无干扰，计算滴定金属离子的适宜pH范围，选定指示剂进行滴定。重复以上步骤以测定其他金属离子（4）若有干扰，需采取掩蔽、解蔽或分离等方式除去干扰再测定

2、αY(N)＞＞αY(H)时lgKMY=ΔlgK＋pN，不受酸度影响，但对其最低酸度有要求，不使金属离子水解，尽量使KMY达最大。3、αY≈αY(H)即αY(H)＞＞αY(N)时,同单一离子滴定。（1）最高酸度：由相应值计算或查表、查林邦曲线（2）最低酸度：金属离子水解酸度（3）最佳酸度：取决于所用指示剂，见例子

实质：利用掩蔽剂降低干扰离子的浓度，使不与EDTA配位或降低KNY。三、用掩蔽和解蔽的办法进行分别滴定常用方法：配位掩蔽法、沉淀掩蔽法、氧化还原法1、配位掩蔽法利用配位反应降低干扰物质浓度来消除干扰，减小αY(H)

1、配合物的条件稳定常数2、沉淀掩蔽法（1）定义：利用干扰离子与掩蔽离子形成沉淀(不分离沉淀)消除干扰的方法。如Ca2+、Mg2+的滴定，加入NaOH溶液，调pH＞12.0，Mg2+生成Mg(OH)2沉淀。使用钙指示剂以EDTA滴定Ca2+。（2）要求①生成的沉淀溶解度小，使反应完全②生成的沉淀应是无色或浅色致密的，最好是晶形沉淀，吸附作用小。

利用氧化还原反应变更干扰离子价态以消除干扰的方法3、氧化还原掩蔽法4、解蔽方法解蔽方法：使被掩蔽的离子从掩蔽体中释放出来的方法称解蔽。可利用解蔽方法进行连续滴定。将一些离子掩蔽，对某种离子进行滴定后，加入一种试剂（解蔽剂）将已被滴定剂或掩蔽剂络合的金属离子释放出来，再进行滴定的方法。

四、预计先分离除去干扰离子在控制酸度、掩蔽和解蔽办法有困难时，可采用分离的方法。五、用其他配