基于高级参数模型的DRC - MME测量精度优化技术探究.docx

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2025-04-13 发布于上海
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基于高级参数模型的DRC-MME测量精度优化技术探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科学技术的快速发展进程中，众多领域对材料光学特性的精确测量提出了迫切需求。椭偏测量技术作为一种重要的光学测量手段，凭借其高灵敏度、高精度、无损检测以及对环境要求较低等显著优势，在半导体、光电子、材料科学、生物医学等多个领域得到了广泛应用。在半导体工业中，精确测量薄膜厚度和光学常数对于集成电路和光电器件的制造至关重要，直接影响着器件的性能和可靠性；在光电子领域，该技术有助于优化光学元件的设计，提高光电器件的效率和质量；在材料科学研究中，能够深入探究材料的微观结构和光学性质，为新型材料的开发提供关键数