有色金属-铱靶材.docx

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中华人民共和国工业和信息化部发布202X-XX-XX实施202X-XX-XX发布铱靶材Iridiumsputteringtargets（预审稿）

中华人民共和国工业和信息化部发布

202X-XX-XX实施

202X-XX-XX发布

铱靶材

Iridiumsputteringtargets

（预审稿）

在提交反馈意见时，请将您知道的相关专利连同支持性文件一并附上)

YS/TXXX—202X

YS

中华人民共和国有色金属行业标准

ICS77.150.99

CCSH68

前言

本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则进行起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。

本标准负责起草单位：贵研铂业股份有限公司、云南贵金属实验室有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、陕西三毅有岩材料科技有限公司、有研亿金新材料有限公司、江苏多维科技有限公司、有研亿金新材料（山东）有限公司。

本标准主要起草人：王传军、闻明、管伟明、沈月、许彦亭、巢云秀、李思勰、向磊、朱武勋、施晨琦、孙岩、滕海涛、贺昕、易树礼。

YS/TXXX-2023

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GB/TXXXX-XXXX

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溅射用铱靶材

范围

本文件规定了铱靶材的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。

本文件适用于采用溅射方法或采用物理气相沉积镀膜用的金属铱靶材。

规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件。不注日期的引用文件，其必威体育精装版版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB/T1031产品几何技术规范（GPS）表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值

GB/T1422铱粉

GB/T6394金属平均晶粒度测定方法

GB/T14265金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则

GB/T15077贵金属及其合金材料几何尺寸测量方法

GBT8651金属板材超声板波探伤方法

YS/T837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法

YS/T1506-2021高纯铱化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法

术语和定义

下列术语适用于本文件。

3.1

靶材target

在溅射沉积技术中的阴极部分，该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱落阴极而在阳极表面沉积。

3.2

靶坯iridiumtarget

阴极上用做溅射沉积的材料，用于制备镀膜材料。

3.3

背板backingplate

用来支撑或固定靶坯的部分。靶材与背板可以通过焊接（如钎焊、电子束焊、扩散焊等）、机械复合、粘接等方式连接。

分类

4.1产品分类

4.1.1铱靶按化学成分分为3N5、4N、4N5三个牌号。

4.1.2铱靶按照结构形式分为单体型和焊接型，背板材料包括铜、铜合金及铝合金等。

4.1.3铱靶按照截面形状分类主要为圆形、矩形或其他形状。

技术要求

5.1化学成分

铱靶的化学成分应符合表1的规定。

表1铱靶的化学成分

牌号

3N5

4N

4N5

铱含量（质量分数）/不小于wt%

99.95

99.99

99.995

金属杂质含量（质量分数）×10-4不大于

Pt

150

30

15

Ru

150

20

15

Rh

150

20

15

Pd

100

10

15

Au

50

10

10

Ag

30

10

10

Cu

50

15

10

Fe

50

20

15

Ni

50

10

10

Al

50

10

10

Pb

50

10

10

Mn

20

10

5

Mg

20

10

5

Sn

50

10

5

Si

50

15

5

Zn

50

10

5

Ca

50

15

5

As

10

10

5

Ca

20

10

5

B

10

10

1

Se

10

10

1

Cr

50

10

10

气体杂质含量（质量分数）×10-4不大于

C

-

100

100

N

-

50

20

O

-

200

100

S

-

20

20

杂质总含量（不包括C、N、O、S）/×10-4不大于

500

100

50

注1、铱含量为100%减去表中所列杂质总含量的余量（不含C、N、O、S）。

注2、需方对杂质元素有特殊要求