电子束光刻三维微结构模拟计算的深度剖析与应用拓展.docx

电子束光刻三维微结构模拟计算的深度剖析与应用拓展

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，微纳制造技术作为众多前沿领域的基石，正发挥着日益重要的作用。从集成电路芯片到微机电系统（MEMS），从生物医学传感器到纳米光子学器件，微纳制造技术的进步推动着这些领域不断突破创新。而电子束光刻（ElectronBeamLithography,EBL）作为微纳制造领域中的关键技术之一，凭借其独特的优势，在实现高精度、高分辨率的微纳结构加工方面占据着举足轻重的地位。

电子束光刻技术的基本原理是利用聚焦的电子束照射光刻胶，通过电子与光刻胶分子的相互作用，使光刻胶的化学结构发生变化，从而