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[Table_Title]
电子行业深度研究
行
业光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正
研挖掘价值投资成长
究
/当时，产业链迎突破黄金期
[Table_Rank]
电
子强于大市（维持）
/
2025年04月11日
[Table_Author]
证东方财富证券研究所
券
研[Table_Summary]
究【投资要点】
报
告
光刻机为半导体制造核心设备，空间巨大、高度垄断。光刻工艺是半
导体制造最核心的工艺之一，光刻机也是技术壁垒最高、市场空间最
大的细分设备大类之一。根据AMAT资料，2023年全球957亿美元WFE相对指数表现
[Table_PicQuote]
市场中，光刻机占比约26%、近250亿美元。而光刻机市场高度垄断，
荷兰ASML一家便占据绝大多数市场，尤其是在高端产品如EUV、ArFi59.51%
45.64%
等领域呈绝对领先，此外日本Nikon、Canon也有一定市场份额。31.77%
17.90%
光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进。光刻机对芯片的曝光效果4.03%
和大规模量产时的良率、效率都有着极为重要的影响，其首要的核心-9.85%
指标是分辨率，以顺应摩尔定律，进而需要追求波长的缩短（光源）、4/116/118/1110/1112/112/114/11
数值孔径NA的提高（物镜和浸没式）、k1因子的降低（照明条件、计电子沪深300
算光刻等），以及催生出了多重曝光技术。此外，光刻机的套刻精度
提高、产能提高也是持续迭代的重要方向。
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《美国关税落地，看好自主可控》
销售成本为104亿欧元，上游采购空间巨大，其中核心子系统作用关
2025.04.08
键，主要包括光源（ASML子公司Cymer垄断）、曝光光学系统（照明+
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